[報(bào)告簡(jiǎn)介]

無(wú)掩膜光刻技術(shù)因擺脫了掩膜板的束縛，可以高效快速地開(kāi)發(fā)各類生物學(xué)和醫(yī)學(xué)器，正逐漸成為各類研發(fā)機(jī)構(gòu)主要的光刻設(shè)備。與傳統(tǒng)掩膜版技術(shù)相比，無(wú)掩膜曝光技術(shù)具有高分辨、高對(duì)準(zhǔn)精度、簡(jiǎn)易操作等諸多優(yōu)勢(shì)，能夠輕松實(shí)現(xiàn)微米、亞微米級(jí)精度的光刻、套刻。配合各類標(biāo)準(zhǔn)微加工工藝，能夠方便快捷地實(shí)現(xiàn)各類生物芯片器件的制備。在本報(bào)告中，將重點(diǎn)介紹無(wú)掩膜光刻技術(shù)前沿進(jìn)展，結(jié)合來(lái)自國(guó)內(nèi)外科研單位在國(guó)際期刊發(fā)表的研究成果，探討無(wú)掩膜光刻技術(shù)在生物和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用。

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[報(bào)告時(shí)間]

開(kāi)始  2022年12月21日  14:00

結(jié)束  2022年12月21日  14:30

[主講人介紹]

喻博聞 博士

喻博聞博士，畢業(yè)于澳大利亞昆士蘭大學(xué)機(jī)械與礦業(yè)學(xué)院，博士期間研究方向?yàn)槲⒓{機(jī)電器件中的界面問(wèn)題，以及微納尺度操縱和加工技術(shù)。現(xiàn)于Quantum Design中國(guó)子公司表面光譜部門(mén)，負(fù)責(zé)微納加工和表征相關(guān)產(chǎn)品在全國(guó)的應(yīng)用開(kāi)發(fā)、技術(shù)支持及市場(chǎng)拓展工作。

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1、小型臺(tái)式無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3