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實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式吸收譜(XAFS)助力解析缺陷位點(diǎn)在全解水反應(yīng)中的高效應(yīng)用

更新時(shí)間:2021-11-19點(diǎn)擊次數(shù):1509

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近年來,表面缺陷調(diào)控工程被認(rèn)為是提高催化劑催化活性的種高效方法。因?yàn)楸砻嫒毕莨こ炭梢杂行д{(diào)控活性位點(diǎn)的配位環(huán)境,從而化催化劑的電子結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)電子轉(zhuǎn)移和中間產(chǎn)物(*OH、*O和*OOH)吸附自由能的化,大大提升催化反應(yīng)效率。層狀雙金屬氫氧化物(LDH)因其在水氧化(OER)反應(yīng)中的異性能而被廣泛研究。而表面缺陷的引入將進(jìn)步提升其在OER中的催化效率。近期,鄭州大學(xué)馬煒/周震教授及其他合作者成功揭示了NiFe雙金屬氫氧化物納米片中表面缺陷對(duì)于OER反應(yīng)的巨大提升作用,同時(shí)通過結(jié)合X射線吸收譜(臺(tái)式easyXAFS300+,美國easyXAFS公司),成功揭示了表面缺陷在催化反應(yīng)中的作用機(jī)制,相關(guān)研究成果發(fā)表于Journal of Materials Chemistry A, 2021, 9(25): 14432-14443.

 

該課題組通過用H2O2和H2O(v/v=1:1)的混合溶液將水熱條件下制備的NixFe1-x(OH)2/CNT復(fù)合物進(jìn)行氧化,得到了富含缺陷的NixFe1-x(OH)2/CNT-t(為雙氧水處理氧化時(shí)間)催化劑。經(jīng)過24h的氧化處理, Ni1/2Fe1/2(OH)2/CNT-24表面形成了豐富的缺陷結(jié)構(gòu)。相較與沒有氧化處理的催化劑, NixFe1-x(OH)2/CNT-24催化劑表面展現(xiàn)出明顯的孔洞,這是由于氧化過程中,F(xiàn)e(OH)2向α-FeOOH轉(zhuǎn)變而從層間脫離,形成的孔洞和缺陷結(jié)構(gòu)。

 

為了進(jìn)步驗(yàn)證氧化處理后催化劑的缺陷結(jié)構(gòu),研究人員用實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式X射線吸收譜(easyXAFS300+)進(jìn)行催化劑表征。相關(guān)測試結(jié)果如圖1所示,為實(shí)驗(yàn)樣品中Ni的k edge X射線吸收譜圖(XAFS),可以看出,實(shí)驗(yàn)樣品與Ni foil有著明顯的吸收邊和近邊結(jié)構(gòu)的區(qū)別,說明主要的實(shí)驗(yàn)樣品皆為+2價(jià)Ni元素。圖1b為Ni k edge傅里葉變換R空間數(shù)據(jù),可以得知經(jīng)過24h氧化的樣品的Ni-O的散射路徑長度為1.80 ?,明顯小于原始樣品(NiFe-LDH)的1.89 ?。且氧化后樣品的Ni-O配位數(shù)為4.5,明顯低于原始樣品(NiFe-LDH)的配位數(shù)6。以上數(shù)據(jù)表明經(jīng)過雙氧水的氧化后,部分Ni-O鍵斷裂,Ni展現(xiàn)出不飽和配位,催化劑中存在氧空位。同時(shí),通過第二殼層的分析發(fā)現(xiàn),氧化樣品中Ni-Fe/Ni-Ni的散射路徑長度為2.96 ?,配位數(shù)為4,而原始樣品中Ni-Fe/Ni-Ni的散射路徑長度 2.95 ?,配位數(shù)為4。由此可見,經(jīng)過雙氧水的氧化腐蝕作用,NiFe-LDH樣品中存在明顯的金屬缺陷和氧空位(鎳缺陷或鐵缺陷)。

 

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2. easyXAFS公司的臺(tái)式XAFS/XES譜儀

 

實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式XAFS譜儀勢(shì):

1. 臺(tái)式設(shè)計(jì),可以在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)隨時(shí)滿足日常樣品分析;

2. LabVIEW軟件腳本控制,附帶7位自動(dòng)樣品輪, 可以同時(shí)進(jìn)行多個(gè)樣品或樣品參數(shù)條件下的測試;

3. 可集成輔助設(shè)備,搭配原位池,可實(shí)現(xiàn)高壓、氣體氛圍、電化學(xué)等條件下的測試(已輔助客戶成功驗(yàn)證),實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)原位表征測試。

4. 臺(tái)式XAFS/XES譜儀具有XAFS和XES兩種工作模式,可快速切換,滿足不同科研試驗(yàn)需求;

5. 臺(tái)式XAFS/XES譜儀測得的譜圖效果可以媲美同步輻射數(shù)據(jù),如圖3所示,其測得的Ni元素的EXAFS,Ce和U元素的L3-edge的XANES譜圖數(shù)據(jù)與同步輻射光源譜圖效果*致;

 

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3. (a, b)臺(tái)式XAFS/XES譜儀與同步輻射光源測得的Ni EXAFS及傅里葉變換后R空間對(duì)比譜圖, (c、d)Ce和U L3-edge XANES譜圖數(shù)據(jù)對(duì)比圖

6. 多種型號(hào)和配置可選,滿足不同科研要求;

7. 操作便捷,維護(hù)成本低,安全可靠.

 

參考文獻(xiàn):

[1] Ge J, Zheng J Y, Zhang J, et al. Controllable atomic defect engineering in layered NixFe1-x (OH)2 nanosheets for electrochemical overall water splitting[J]. Journal of Materials Chemistry A, 2021, 9(25): 14432-14443.

 


相關(guān)產(chǎn)品:


XAFS/XES 臺(tái)式X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜儀

https://www.chem17.com/product/detail/32078159.html

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