技術(shù)文章
TECHNICAL ARTICLES近年來,高熵的概念被應(yīng)用到各種功能材料中,并被證明有于結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性以及能量的儲存和轉(zhuǎn)換效率。在電化學(xué)儲能域,科研人員通過在單相結(jié)構(gòu)中引入大量不同的元素來制備多組分材料,實現(xiàn)增加構(gòu)型熵(成分無序),提升電池性能和穩(wěn)定性。德國卡爾斯魯厄理工學(xué)院的Torsten Brezesinski課題組將高熵概念應(yīng)用于四種金屬離子(Fe, Co, Ni和Cu)結(jié)合的高熵Mn基HCF材料 (HEM -HCF, 40% Mn),并與中熵HCF(MEM-HCF, 60% Mn),低熵HCF (LEM-HCF, 80% Mn)和傳統(tǒng)單金屬Mn基HCF (Mn-HCF, 100% Mn) 進行對比,發(fā)現(xiàn)多組分的高構(gòu)型熵樣品在鈉存儲方面有顯著改善。相關(guān)成果發(fā)表在Adv. Func. Mater. 2022, 2202372。
為了更好地理解多組分材料體系中的作用機理,探索高構(gòu)型熵概念其對電池性能的影響,作者用美國臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)easyXAFS300+,揭示了構(gòu)型熵在Mn-HCF 鈉離子電池陰循環(huán)性能中的作用,并提供了與其電化學(xué)行為之間的關(guān)聯(lián)佐證。該臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng),擺脫了同步輻射光源的束縛,在實驗室中為Torsten Brezesinski課題組提供了套媲美同步輻射光源數(shù)據(jù)的表征技術(shù),包括X射線吸收光譜(XAS)和X射線發(fā)射光譜(XES),實現(xiàn)了對元素化學(xué)價態(tài)、局部配位結(jié)構(gòu)以及自旋態(tài)的多重互補信息的獲取,為闡明電化學(xué)性能的改善機理提供了關(guān)鍵數(shù)據(jù)支撐。
美國臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)easyXAFS300+
作者采用XAS方法研究了不同金屬離子的氧化狀態(tài)和局部配位結(jié)構(gòu)。圖1c-e比較了HEM-和Mn-HCF的Mn K-edge數(shù)據(jù)。得到了非常相近的鍵位及鍵長徑向分布,分別對應(yīng)于M-N、M-C和M-M化學(xué)鍵位。結(jié)果表明,HEM-HCF中的4b (M)位點(Fe2, Mn, Co, Ni, Cu),即-Fe(4a)-C≡N-M(4b)-N≡C-Fe(4a)-與Mn-HCF中的Mn位點具有相同的配位環(huán)境。從HEM-,Mn-和Fe-HCF材料(圖1f-h)收集的Fe K-edge 數(shù)據(jù)再次表明,HEM-和Mn-HCFs的鍵位及鍵長徑向分布相似,這是因為-Fe(4a)-C≡N-的貢獻占主導(dǎo)地位,而-Fe(4b)-N≡C-的貢獻為零(Mn-HCF)或較小(HEM-HCF)。相反,與其他兩種材料相比,F(xiàn)e-HCF的殼層具顯著不同,說明Fe元素在-Fe(4a)-C≡N-和-Fe(4b)-N≡C-中顯示出不同的金屬配體間距。
圖1. 構(gòu)型熵在提高鈉離子電池多組分六氰鐵酸陰循環(huán)性能中的作用。a) HEM-HCF晶體結(jié)構(gòu)示意圖;b) HEM-HCF的XRD圖譜和相應(yīng)的Rietveld細化圖譜;c)歸化Mn K-edge吸收譜;d) k3加權(quán)χ(k)譜,e) k3加權(quán)χ(k)譜的傅里葉變換;f)歸化Fe K-edge吸收譜;g) k3加權(quán)χ(k)譜;h) k3加權(quán)χ(k)譜的傅里葉變換。
圖2a-e顯示了從HCF樣品和標準物質(zhì)中收集的歸化K-edge X射線吸收近邊光譜(XANES)。平均氧化態(tài)通過與已知標準品的“指紋"比對確定,其中大部分為具有八面體配位環(huán)境的金屬氧化物,對應(yīng)于HCFs中的M-N6和Fe-C6。HEM-HCF中Mn, Co, Ni和Cu 的XANES數(shù)據(jù)表明與傳統(tǒng)HCF材料的近邊結(jié)構(gòu)致。Mn, Co和Cu K-edge分別與MnO, CoO和CuO吸收邊位置相近,如圖2b,d,e所示,表明氧化態(tài)為+2價。Ni K-edge的能量位移不太明顯(圖2c)。因此,對比HEM-HCF中Ni的階導(dǎo)數(shù)(dμ(E)/dE)個峰的位置,表明Ni在HEM-HCF中是+2~+3的氧化態(tài)。盡管Fe在這些標準參考材料中的氧化狀態(tài)不同,但HEM-、Mn-和Fe-HCF中的Fe K-edge譜圖(圖2a)仍顯示了與Fe2O3、 K4[Fe(CN)6]·3H2O和K3[Fe(CN)6]相似的吸收邊位置,。這是因為Fe K-edge的吸收對配體類型、共價性和Fe自旋態(tài)非常敏感,會使吸收邊產(chǎn)生微小變化。
圖2. a) Fe, b) Mn, c) Ni, d) Co, e) Cu K-edge XANES數(shù)據(jù);f)不同HCF和標準參考物質(zhì)的Fe Kβ X射線發(fā)射譜XES;(f)中的插圖為Kβ1,3;g) Fe(+2和+3,高自旋HS和低自旋LS)對應(yīng)激發(fā)態(tài)的簡化描述。
為了更深入地了解Fe的氧化態(tài)和自旋態(tài),作者進步測試了X射線發(fā)射譜XES,見圖2f。行過渡金屬的Kβ發(fā)射線對應(yīng)于3p電子→1s核孔(1s13p63dn)的躍遷過程,形成終態(tài)為1s23p53dn。3p-3d交換耦合導(dǎo)致線分裂(形成Kβ1,3和Kβ′),Kβ′的相對強度取決于未配對3d電子的數(shù)量。HEM-和Mn-HCF樣品以及K4[Fe(CN)6]·3H2O和K3[Fe(CN)6]標準參考材料均顯示出弱Kβ′,表明未配對電子數(shù)量較少,證明了低自旋(LS)電子構(gòu)型(1s23p5t2gneg0)。Fe-HCF具有不同的Kβ1,3-Kβ′分裂(Kβ′強度相對較低)。這表明在-Fe(4a)-C≡N-和-Fe(4a)-N≡C-配位中低自旋(LS)和高自旋(HS) 的Fe提供了混合貢獻。以前的報道也表明,鐵基材料的Kβ1,3線隨著標稱自旋值(S)的增加而向更高的能量轉(zhuǎn)移,反映了氧化態(tài)和自旋態(tài)。K4[Fe(CN)6]·3H2O具有明確的LS Fe2+ (1s23p5t2g6eg0)結(jié)構(gòu),標稱自旋值S=0,其Kβ1,3峰如預(yù)期的集中在能量·低處。從FeO (1s23p5t2g4eg2, S=2)和Fe3O4 (S=2.33)到Fe2O3 (S=2.5)和Fe4(P2O7)3 (1s23p5t2g3eg2, S=2.5)的變化中,高自旋標準品的Kβ1,3線的能量確實穩(wěn)步增加,這與文獻保持致。HEM-和Mn-HCF的Kβ1,3線位置與K4[Fe(CN)6]·3H2O相似,但能量略低于K3[Fe(CN)6] (LS, 1s23p5t2g5eg0, S = 0.5),說明大部分Fe2+離子(LS, S=0)與C相配位(-Fe-C≡N-)。另方面,F(xiàn)e-HCF Kβ1,3線的能量位置位于Fe單質(zhì)LS, S = 1)和FeO (HS, S = 2)之間,表明存在種NaxFe3+(HS, S=2.5)[Fe2+(LS, S = 0)(CN)6]構(gòu)型。
綜上所述,通過比較三種HCF的性能,使用高構(gòu)型熵材料的勢變得明顯。別是,隨著熵的增加,結(jié)構(gòu)降解和相變的抑制程度依次為LEM-HCF < MEM-HCF < HEM-HCF,這為后種材料異的循環(huán)性能提供了解釋。
臺式X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜儀-XAFS/XES測試數(shù)據(jù)展示:
XAFS for 3d-transition metals easyXAFS硬x射線能譜儀具有寬的能量范圍,可以測量從Ti到Zn的所有三維過渡金屬的高質(zhì)量XANES和EXAFS。這些元素在從電池到催化、環(huán)境修復(fù)等現(xiàn)代研究的關(guān)鍵域至關(guān)重要。 | Fe\Mn\Ni\Co\Cu XANES & XES Kβ data ` 用easyXAFS300+測量了Fe\Mn\Ni\Co\Cu XANES 譜圖及 Fe XES Kβ數(shù)據(jù),分別提供元素價態(tài)及自旋態(tài)的數(shù)據(jù)支撐。 Adv. Func. Mater. 2022, 2202372。 |
Cu EXAFS easyXAFS光譜儀探測了Cu K-edge X射線近邊吸收譜(XANES)。實現(xiàn)材料元素價態(tài)及配位結(jié)構(gòu)的解析對MOFs材料的性能及機理研究尤為重要。 J. Am. Chem. Soc. 2022, 144, 4515?4521 | Ni EXAFS easyXAFS硬x射線光譜儀擁有與同步加速器匹配的高能量分辨率。實現(xiàn)對Ni近邊區(qū)XANES和擴展邊區(qū)EXAFS的高質(zhì)量數(shù)據(jù)采集。 J. Mater. Chem. A, 2021, 9, 14432–14443 |
Fe EXAFS 高性能Fe K-edge 擴展邊到k = 14 ?,樣品為Fe金屬箔。EXAFS提供了對局部結(jié)構(gòu)和配位環(huán)境的數(shù)據(jù)測量。 | NMC Ni K-edge 高性能NMC 442和NMC 811電池電的Ni K-edge XANES譜圖。Ni K-edge位置的變化反映了不同NMC組成導(dǎo)致Ni氧化態(tài)的變化。 J. Electrochem. Soc., 2021, 168, 050532 |
Co K-edge Rapid XANES easyXAFS硬x射線光譜儀能夠與同步加速器匹配的能量分辨率高質(zhì)量的數(shù)據(jù)收集。異的性能可以在幾分鐘內(nèi)實現(xiàn)。這使得在短時間內(nèi)收集大數(shù)據(jù)集以及實時跟蹤反應(yīng)過程成為可能。 | Pr L3-edge XANES Pr2O3和Pr6O11的L3邊XANES數(shù)據(jù)表明對Pr氧化狀態(tài)變化的敏感性。用easyXAFS300光譜儀測量。 |
V XANES 用臺式X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜儀獲得了V k邊的邊前及近邊結(jié)構(gòu)譜圖,揭示了引入Al3+后,VOH的結(jié)構(gòu)變化及充放電過程中的有作用。 Nano Energy, 2020, 70, 104519 | Cr Kα XES 用easyXAFS光譜儀測量了不同氧化態(tài)的Cr Kα X射線,兼具高能量分辨率及X射線熒光的高靈敏度。 Anal. Chem. 2018, 90, 11, 6587–6593 |
V EXAFS V K-edge EXAFS顯示了easyXAFS譜儀與同步輻射光源相匹配的高k值下的異表現(xiàn)。 | Fe Oxide XANES data 用easyx150光譜儀測量Fe和Fe(III) [Fe2O3]的Fe K-edge,用XANES對氧化態(tài)差異進行表征。 |
Ti\Mn XANES data easyXAFS譜儀獲取Ti元素和Mn元素的價態(tài)變化,進步驗證了高價Ti離子和部分F離子替代后策略背后的作用機理。 Chem. Mater. 2021, 33, 21, 8235–824 | Mn&Fe EXAFS easyXAFS譜儀獲取Ti元素和Mn元素的XANES和EXAFS譜圖,解析化學(xué)價態(tài)及局部配位結(jié)構(gòu)。 Adv. Func. Mater. 2022, 2202372 |
Fe oxide XES(low weight %) Fe Kβ 光譜測量濃度低至0.25 wt. %,測量時間僅為4分鐘。X射線發(fā)射譜XES非常適合于低元素濃度。 | XES-Se VTC
在easyXES150光譜儀上對金屬Se和Na2SeO4的價帶→核心的XES測量。12639 eV處出現(xiàn)的附加峰反映了Na2SeO4中硒價電子的價電子結(jié)構(gòu)的變化,這可能是由于與氧的軌道混合所致。 |
XES- Ni VTC 用easyXAFS光譜儀測量了不同化合物的Ni Kβ XES,在高能量分辨率下,顯示了對X射線熒光的靈敏度。 Adv. Mater. 2021, 2101259 |
【參考文獻】
[1]. Yanjiao Ma, Yang Hu, et al., Resolving the Role of Configurational Entropy in Improving Cycling Performance of Multicomponent Hexacyanoferrate Cathodes for Sodium-Ion Batteries, Adv. Func. Mater. 2022, 2202372.
相關(guān)產(chǎn)品
1、臺式X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜儀-XAFS/XES
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